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判例情報


平成25年(ワ)第3360号
非磁性材粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット事件


弁理士  玉腰 紀子
弁理士  須山 佐一

○判決のポイント

 構成要件1-Bの「前記材料の研磨面」は,焼結体スパッタリングターゲットの材料の2回目以降の研磨後の面も含むから,2回目の研磨後の研磨面に少なくとも4か所の粗大粒子が存在する被告製品1は,構成要件1-Bを充足属しない,とされた。

 事件番号等:平成25年(ワ)第3360号(東京地裁 H27.09.29)
 事件の種類(判決):特許権侵害差止請求(請求棄却)
 原告/被告:JX日鉱日石金属株式会社/田中貴金属工業株式会社
 キーワード:構成要件の充足性,禁反言
 関連条文:特許法70条,100条1項

○裁判所の判断

*被告製品1は構成要件1-Bを充足しない
 被告製品1には2回目の研磨後の研磨面に少なくとも4か所の粗大粒子が存在することが明らかである。被告製品1は構成要件1-Bを充足せず,本件発明1の技術的範囲に属しない。
 非磁性材の粒子の大きさが上記の範囲内にあること,すなわち,非磁性材の粗大粒子が存在しないことは課題解決のための本質的部分である。これに加え,原告は,本件特許の出願経過において,「太った粒子」が存在すると,本件各発明の効果を得ることができないなどの旨を述べている。原告が不可避的な粗大粒子が存在しても構成要件1-Bを充足すると主張することは許されないと解すべきである。
 スパッタリングの進行に伴ってターゲットの表面が消耗するとターゲットの内部が露出し,その部分もスパッタリングに供されることが認められる。非磁性材の粗大粒子によるパーティクル発生の防止という課題は,非磁性材がターゲットの表面にある場合だけでなく,ターゲットの内部にある場合にも共通すると解される。構成要件1-Bにいう「前記材料の研磨面」は,焼結体スパッタリングターゲットの材料の表面又は内部の任意の箇所を研磨した面を意味し,2回目以降の研磨後の面も含むと判断するのが相当である。

(*本件発明1~3は,乙23発明と同一であり,新規性を欠くと判断すべき。)

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